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Hochvakuum-Beschichtungssystem für ein breites Spektrum von Anwendungen

Ausgestattet mit einer konfigurierbaren Prozesskammer aus Metall ist der Sputter-Coater EM ACE600 flexibel und kann an eine Vielzahl von Anwendungen angepasst werden. Erreichen Sie Ihre Workflow-Ziele und erfüllen Sie die Anforderungen Ihres Labors, indem Sie bis zu zwei verschiedene Quellen in einem einzigen Präparationsprozess betreiben oder den EM ACE600 sogar für Kryo-Workflows konfigurieren.

Der EM ACE600 macht Ihre routinemäßige Probenvorbereitung einfach und zuverlässig und spart wertvolle Zeit mit dem Komfort der Fronttürbeschickung, automatisierten und rezepturbasierten Beschichtungsprozessen, die mit einem einzigen Tastendruck gestartet werden können.

Ob Sie ...

  • hochauflösende Bildgebung von flachen oder strukturierten nichtleitenden Proben durchführen
  • den Kontrast von Strukturen im Nanometerbereich, wie Proteinen oder DNA-Strängen, verstärken
  • dünne, aber starke Trägerschichten für TEM-Gitter herstellen oder
  • Schutzschichten für empfindliche Proben bereitstellen
  • das System für Kryoanwendungen erweitern

... mit dem Kohlenstoff- und Sputter-Coater EM ACE600 haben Sie alles im Griff.

EM ACE600 Kohlenstoff-, Elektronenstrahl- und Sputter-Coater mit Kryo-Transfer
EM ACE600 Kohlenstoff-, Elektronenstrahl- und Sputter-Coater mit Kryo-Transfer

Sputterbeschichtung

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Reproduzierbare, hochwertige Dünnfilme mit Sputterbeschichtung

Mit dem Hochvakuum-Beschichtungssystem EM ACE600 erzeugen Sie bei jedem Durchlauf gleichbleibend hochwertige, Sputter-Dünnfilme. Erfüllen Sie die richtigen Bedingungen für Ihre anspruchsvollen Beschichtungsanforderungen und erzielen Sie reproduzierbare Ergebnisse dank des automatisierten, rezepturbasierten Sputterbeschichtungsprozesses.

Führen Sie REM-Analysen mit hoher, bis zu 200.000-facher Vergrößerung und darüber hinaus, durch, mit einem hervorragenden Basisvakuum von unter 2 x 10-6 mbar und fein abgestimmten Prozessparametern für eine Reihe von Sputtertargets. Passen Sie den Probenabstand und den Beschichtungswinkel an die Anforderungen der Morphologie der Probe an.

Um Ihre Beschichtungsergebnisse noch weiter zu verbessern, können Sie eine Meissner-Falle verwenden, um das Vakuum auf 10-7 mbar zu erhöhen, und dann Sputtertargets oder Probenmaterialien ausprobieren, die empfindlich auf Sauerstoff reagieren.

Feinkörnige Sputterschichten von nur 2 nm Dicke aus verschiedenen Materialien auf SiOx-Substaten, 200.000-fache Vergrößerung.
Feinkörnige Sputterschichten von nur 2 nm Dicke aus verschiedenen Materialien auf SiOx-Substaten, 200.000-fache Vergrößerung.

Kohlenstoffbeschichtung

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Reproduzierbare, hochwertige Dünnfilme mit Kohlenstoffbeschichtung

Mit dem EM ACE600 können Sie hochwertige Kohlenstoffschichten herstellen, indem Sie Kohlenfadenbeschichtung, Kohlenstabbeschichtung oder Elektronenstrahlverdampfung einsetzen.

Die Kohlenfadenbeschichtung ist eine weit verbreitete Methode, seit

Leica Microsystems das einzigartige adaptive Pulsverfahren entwickelt hat, das im EM ACE600 eingesetzt wird. Es ermöglicht die Herstellung von präzisen, robusten und amorphen Schichten mit einer Dicke im Sub-Nanometerbereich und minimiert gleichzeitig die Wärmeeinwirkung auf die Probe. Ganz gleich, ob Sie nanometerdünne, starke und saubere TEM-Trägerschichten, diffuse (Schutz-)Beschichtungen oder große homogene Kohlenstoffschichten benötigen, der Kohlenfaden ist die richtige Wahl.

Für spezielle Anwendungen, wie Rotary Shadowing, können Sie den Elektronstrahl-Verdampfer verwenden. Seine geringe Strahldivergenz ist ideal für Schattenbeschichtungen, die den Kantenkontrast von Strukturen im Nanometerbereich verbessern.

Präzise Kohlenstoffabscheidung von 1–5 nm dicken Kohlenstofffilmen
Präzise Kohlenstoffabscheidung von 1–5 nm dicken Kohlenstofffilmen

Ultradünne Kohlenstoffschichten

Kohlenstoffbeschichtungen finden in der Elektronenmikroskopie vielfältige Anwendung. Sie müssen leitfähig, aber für den Elektronenstrahl unsichtbar sein und sollten keine Kornstrukturen aufweisen.

Dünne Schichten, die vom EM ACE600 Kohlenfaden mit adaptivem Pulsen produziert werden, sind präzise in der Dicke, robust, leitfähig und können sogar ausgeheizt werden, um Verunreinigungen weiter zu reduzieren. Letztendlich bieten solche Schichten:

  • Hohe Transparenz für Elektronen
  • Ausreichende Festigkeit, um einem Elektronenbeschuss standzuhalten
  • Gleichmäßige Dicke, entscheidend für analytische Untersuchungen, quantitative Bildgebung oder Elektronentomographie
A: Herkömmliche Kohlenstoffschicht (15 nm Kohlenstoff); B: Ultradünne Kohlenstoffschicht (3 nm). Einfache Beobachtung des Gitters von CdSe-Quantenplatten. Bilder von Eva Bladt und Sara Bals (EMAT, Universität Antwerpen), Belgien. Mit freundlicher Genehmigung von: Frederic Leroux und Jan de Weert. Probe mit freundlicher Genehmigung von: Daniel Vanmaekelbergh, Debye Institute for Nanomaterials Science, Universität Utrecht
A: Herkömmliche Kohlenstoffschicht (15 nm Kohlenstoff); B: Ultradünne Kohlenstoffschicht (3 nm). Einfache Beobachtung des Gitters von CdSe-Quantenplatten. Bilder von Eva Bladt und Sara Bals (EMAT, Universität Antwerpen), Belgien. Mit freundlicher Genehmigung von: Frederic Leroux und Jan de Weert. Probe mit freundlicher Genehmigung von: Daniel Vanmaekelbergh, Debye Institute for Nanomaterials Science, Universität Utrecht

Passen Sie den EM ACE600 an Ihre Bedürfnisse an

Dank der großen konfigurierbaren Prozesskammer aus Metall des EM ACE600 können Sie mehr als einen Prozess in einem einzigen Beschichtungsgerät ausführen, ohne das Vakuum zu unterbrechen. Kombinieren Sie gleichzeitig einen Sputterkopf mit einem Kohlenfadenverdampfer oder wählen Sie zwei Sputterquellen, um mehrschichtige Metallbeschichtungen in einem einzigen Vorbereitungsprozess zu ermöglichen.

  • Erzeugen Sie gleichmäßig verteilte Dünnschichten über den gesamten 100-mm-Tisch dank des optimierten Zwei-Quellen-Konzepts mit zwei abgewinkelten Ports und einem Drehtisch
  • Wählen Sie aus robusten Kohlenfaden-, Elektronenstrahl- und Sputterbeschichtungsquellen
  • Statten Sie Ihren EM ACE600 mit Glimmentladungssystem aus
  • Jederzeit vor Ort erweiterbar
ACE600 konfigurierbare Ports für zwei Quellen. Wählen Sie aus: 1-Kohlenfadenverdampfung | 2-Sputtern | 3-Kohlenstabverdampfung | 4-Elektronenstrahlverdampfung
ACE600 konfigurierbare Ports für zwei Quellen. Wählen Sie aus: 1-Kohlenfadenverdampfung | 2-Sputtern | 3-Kohlenstabverdampfung | 4-Elektronenstrahlverdampfung

Konzentrieren Sie sich auf die entscheidenden Teile Ihres Präparationsprozesses

Mit dem EM ACE600 Kohlenstoff- und Sputter-Coater können Sie sich darauf verlassen, dass Ihre routinemäßige Probenvorbereitung mit nur einem Tastendruck erledigt wird. Dank einfacher und zuverlässiger Arbeitsabläufe und bequemer Standardarbeitsanweisungen können Sie sich auf die entscheidenden Teile der EM-Probenvorbereitung konzentrieren. Sie können sich auf die Optimierung Ihres Arbeitsablaufs konzentrieren und verbringen weniger Zeit damit, die Bedienung des Systems zu erlernen oder andere darin zu schulen.

  • Sicheres Be- und Entladen empfindlicher Proben über die Fronttür
  • Eine Workflow-basierte Benutzeroberfläche und schneller Zugriff auf relevante Parameter weisen den Weg
  • Leichte und robuste Quellen für eine bequeme tägliche Handhabung
EM ACE600 Touchscreen-Bedienung mit einer Workflow-basierenden Benutzeroberfläche
EM ACE600 Touchscreen-Bedienung mit einer Workflow-basierenden Benutzeroberfläche
Leica EM VCT500 & Leica EM ACE600

Erweiterung auf Kryo-Workflows

Erweitern Sie die Möglichkeiten Ihres Labors mit einer breiten Palette von elektronenmikroskopischen Experimenten, indem Sie Ihre Proben unter Kryobedingungen beschichten. Der Kohlenstoff- und Sputter Coater EM ACE600 unterstützt die Probenvorbereitung für die Forschung, wie die Strukturanalyse biologischer Proben in ihrem nativen und hydrierten Zustand, durch Gefrierbruch und Kryobeschichtung, gefolgt von Kryoprobentransfer in das REM mit Hilfe des EM VCT500 Transfersystems.

Der EM ACE600 bietet:

  • Eine Schnittstelle für den Kryoprobentransfer
  • Einen Kryotisch für Beschichtungen unter kryogenen Bedingungen
  • Eine Basis-Gefrierbruchvorrichtung

Wählen Sie die optimale Konfiguration

Erfüllen Sie die Anforderungen Ihrer täglichen Laborarbeit, indem Sie Ihren Kohlenstoff- und Sputter-Coater EM ACE600 konfigurieren.

Wählen Sie aus einer breiten Auswahl an Probenhaltern und Tischen wie dem 3-Achsen-Tisch mit bis zu 3 motorisierten Achsen oder dem speziellen Kühltisch. Schnell austauschbare Provenaufnahmen machen Ihren EM ACE600 zu einem Multitalent.

1: Motorisierter 3-Achsentisch | 2: Rotary Shadowing (LARS-) Tisch | 3: Drehtisch „manuell“ | 4: Kryotisch
1: Motorisierter 3-Achsentisch | 2: Rotary Shadowing (LARS-) Tisch | 3: Drehtisch „manuell“ | 4: Kryotisch

Rotary Shadowing – Nanostrukturen sichtbar machen

Konfigurieren Sie Ihren EM ACE600 mit einem speziellen Low Angle Rotary Shadowing (LARS)-Setup, damit Sie Strukturen im Nanometerbereich, wie Proteine oder DNA-Stränge, mit TEM abbilden können. Die Elektronenstrahlquelle des EM ACE600 in Verbindung mit einem motorisierten LARS-Tisch kombiniert die direkte Dünnschichtabscheidung mit geringer Wärmeeinwirkung und einer optimierten Tischgeometrie für die Abscheidung unter streifendem Einfall. Sobald die DNA-Stränge in einem kleinen Winkel mit einer feinkörnigen Platinschicht schattiert sind, wird eine Kohlenstoffschicht hinzugefügt, um die fragilen Strukturen für die Analyse mit dem TEM zu stabilisieren.

TEM-Bild einer DNA-Replikationsgabel der aufblühenden Hefe S.cerevisiae, erhalten durch Low Angle Rotary Shadowing mit dem EM ACE600 Elektronenstrahlbedampfer
TEM-Bild einer DNA-Replikationsgabel der aufblühenden Hefe S.cerevisiae, erhalten durch Low Angle Rotary Shadowing mit dem EM ACE600 Elektronenstrahlbedampfer

Wählen Sie den richtigen Workflow für Ihr Experiment

Workflows

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Der EM ACE600 hilft Ihnen wesentlich, hochwertige Ergebnisse bei der Durchführung von materialwissenschaftlichen und biologischen Experimenten zu erzielen.

Die Workflows reichen von der Standard-TEM- und REM-Probenvorbereitung bis hin zu 3D-Tomographie-Workflows an Schnitten, FIB REM und mehr. Weitere Informationen zu Workflow-Lösungen für

  • Life Science Forschung: Workflow-Broschüre herunterladen
  • Material Science Forschung: Workflow-Broschüre herunterladen

1 Standard-REM-Workflow

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Standard-REM-Workflow

Untersuchen Sie die Oberflächenarchitektur chemisch fixierter Proben mit dem Standard-REM-Workflow. Bereiten Sie Ihre Proben mit dem EM TP Gewebeeinbettungsautomat vor und trocknen Sie sie anschließend mit dem EM CPD300. Der nächste Schritt besteht darin, Ihre Proben entweder mit dem EM ACE200 oder dem EM ACE600 zu beschichten, gefolgt von der Bildgebung im REM.

(1) Automatisierte Gewebepräparation (EM TP) | (2) Automatisierte Kritisch-Punkt-Trocknung (EM CPD300) | (3) Kohlenstoff- und/oder Sputterbeschichtung (EM ACE200/EM ACE600) | (4) Bildanalyse im REM
(1) Automatisierte Gewebepräparation (EM TP) | (2) Automatisierte Kritisch-Punkt-Trocknung (EM CPD300) | (3) Kohlenstoff- und/oder Sputterbeschichtung (EM ACE200/EM ACE600) | (4) Bildanalyse im REM

2 REM/LM Festkörperpräparation

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REM/LM Festkörperpräparation – Broad Ion Beam Präparation

Diese Technik wird am häufigsten für Festkörper-REM-Proben verwendet, kann aber auch für LM-Untersuchungen angewendet werden. Wenn die Probe ein bestimmtes Ziel hat, das zur Beobachtung freigelegt werden soll, muss die Probe korrekt geschnitten werden, um die innere Struktur des zu untersuchenden Teils zu erhalten. Danach ist bei nicht leitfähigen Proben eine Beschichtung erforderlich, damit die Probe für die REM-Beobachtung geeignet ist.

(1)-(3) Querschliff, Zielpräparation, Schleifen (EM TXP) | (4) und (5) Ionenstrahlfräsen und High-End-Polieren (EM TIX 3X oder EM RES102) | (6) Beschichtung (EM ACE200/EM ACE600) | (7) REM-Analyse
(1)-(3) Querschliff, Zielpräparation, Schleifen (EM TXP) | (4) und (5) Ionenstrahlfräsen und High-End-Polieren (EM TIX 3X oder EM RES102) | (6) Beschichtung (EM ACE200/EM ACE600) | (7) REM-Analyse

3 Präparation und Transfer von Kryo-REM-Proben

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Präparation und Transfer von Kryo-REM-Proben – Broad Ion Beam Präparation

Dieser Kryo-Transfer-Workflow wird für hochdruckgefrorene Proben verwendet, darunter harten und spröden Materialien (wie Ton mit Quarz). Die Probe muss während des gesamten Präparationsprozesses, vom Hochdruckgefrieren über die mechanische Vorbereitung mit der Kryosäge, gefolgt von einem Ionstrahlfräser und schließlich der Übertragung in das Kryo-REM, auf einer Temperatur von -150 °C gehalten werden

(1) Hochdruckgefrieren (EM ICE) | (2)-(3) Querschnitte und Schneiden (EM VCM) | (4) Transfer (EM VCT500) | (5) Ionstrahlfräsen (EM TIC 3X) | (6) Transfer (EM VCT500) | (7) Beschichtung (EM ACE600) | (8) Kryo-REM-Analyse
(1) Hochdruckgefrieren (EM ICE) | (2)-(3) Querschnitte und Schneiden (EM VCM) | (4) Transfer (EM VCT500) | (5) Ionstrahlfräsen (EM TIC 3X) | (6) Transfer (EM VCT500) | (7) Beschichtung (EM ACE600) | (8) Kryo-REM-Analyse

4 REM/LM Festkörperpräparation

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REM/LM Festkörperpräparation – Broad Ion Beam Polieren

Diese Technik wird für große Festkörper-REM- oder LM-Proben verwendet. Wenn eine große Fläche (mehrere cm2) der Probe auf höchstem Qualitätsniveau untersucht werden muss (wie EBSD), wird die Probe mechanisch vor-präpariert (spiegelglatte Oberfläche) und abschließend mit dem Ionenstrahlpolierverfahren präpariert.

(1) & (2) Oberflächenbearbeitung & Polieren (EM TXP) | (3) & (4) Ionenstrahlfräsen & High-End-Polieren (EM TIC 3X oder EM RES102) | (5) Beschichtung (EM ACE200/EM ACE600) | (6) REM-Analyse
(1) & (2) Oberflächenbearbeitung & Polieren (EM TXP) | (3) & (4) Ionenstrahlfräsen & High-End-Polieren (EM TIC 3X oder EM RES102) | (5) Beschichtung (EM ACE200/EM ACE600) | (6) REM-Analyse

5 3D-Tomographie-Workflows an Schnitten

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3D-Tomographie-Workflows an Schnitten

Mit diesem Workflow können Sie die Organisation und Interaktion biologischer Strukturen innerhalb eines festgelegten 3D-Volumens untersuchen. Der erste Schritt besteht darin, Ihre Proben bei Raumtemperatur zu verarbeiten, gefolgt von halbdicken Serienschnitten auf TEM-Gittern. Nach dem Färbeschritt wird mit der TEM-Bildgebung fortgefahren.

(1) Automatisierte Gewebepräparation (EM TP) | (2) Trimmen (EM TRIM2) | (3) Serienschnitte (EM UC7) | (4) Färben (EM AC20) | (5) Bildanalyse im TEM
(1) Automatisierte Gewebepräparation (EM TP) | (2) Trimmen (EM TRIM2) | (3) Serienschnitte (EM UC7) | (4) Färben (EM AC20) | (5) Bildanalyse im TEM
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